借助真空光學臺，該系統在中紅外、近紅外和遠紅外區域具有極佳的靈敏度，而不必擔心那些非常弱的光譜特征因空氣中的水蒸氣吸收而被掩蓋。 布魯克為VERTEX 80/80v FTIR 系列光譜儀提供了全新的新型寬帶遠紅外/太赫茲分束器，拓展了分束器的選擇范圍。特別是在半導體和其它無機材料研究與開發應用中，由于全新的遠紅外固態分束器在單次測量中即可覆蓋從900 cm-1 到 5 cm-1 左右的光譜范圍，并且能夠將中紅外與遠紅外/太赫茲波譜范圍連接起來，因此它還能帶來更多價值。
紅外光譜（IR）的原理：
分子能選擇性吸收電磁光譜中紅外區域的光，從而引起分子振動。 該吸收特異性地對應于分子中存在的化學鍵。 使用光譜儀可以測得光譜圖，橫坐標為波數（常見4000-600 cm-1），縱坐標為樣品對紅外輻射的吸光值。該光譜圖提供了獨特的“分子指紋”，可用于篩選，掃描和鑒定有機及無機樣品。
什么是傅立葉轉換紅外光譜（FTIR）?
不同于色散型光譜儀依次檢測樣品在不同波長下的吸光度，FTIR光譜儀一次性收集所有的光譜數據。為實現此目的，FTIR光譜儀中的光源需含所有波長的光譜。光源發出的紅外光先經過干涉儀而后被投射到樣品上。干涉儀中有一面固定鏡和一面移動鏡，由此產生的干涉圖反映了光強度關于移動鏡位置的函數。通過傅里葉轉換（FT），此干涉圖作為原始數據被轉換為在每個波長下的吸光值（即常見的FTIR光譜）。傅里葉轉換紅外光譜的名字也由此而來。
更多研究應用
半導體研發領域的反射和透射實驗 傅立葉紅外反射和透射光譜是半導體研發領域中常用且非常強大的工具之一。
薄膜分析 鈍化層分析 鈍化層作為保護層、絕緣層或抗反射層，在半 導體材料中扮演著重要的角色。VERTEX 系列 光譜儀是分析鈍化層的理想工具，它可以實 現快速靈敏的無損分析。 磷硅玻璃(PSG)和硼磷硅玻璃(BPSG)中硼和 磷的定量分析 分析SiN等離子層和Si-O基鈍化層 分析超低K層
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硅材料分析 對單晶硅中所含的第三、五族雜質硼、磷、砷、鋁、鎵、銻的定量分析，檢出限達ppta量級。 多晶或單晶硅中代位碳的定量分析，檢出限達ppba量級。 多晶或單晶硅中間隙氧的定量分析，檢出限達ppba量級。 全自動檢測流程，自動分析數據、自動生成檢測報告。
厚度分析 VERTEX 系列光譜儀可用于測量半導體層狀結構 中的層厚度，精度極高。 此應用是基于對紅外光在層狀結構中產生的光干涉效應的分析， 可用于亞微米量級至毫米量級 的厚度分析。 用反射或透射實驗分析層厚度。 專用的分析軟件，用于分析復雜的層狀結構。 可選薄膜掃描成像附件，可測量直徑至12”的 硅晶片
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